概需要经过2个步骤,分别是芯片设计和芯片制造。
打造一款芯片就像是建造一栋大楼,而芯片设计就像给大楼设计建筑图纸。
美利坚在芯片设计领域,占据了绝对优势。
他们的半导体产业起步最早,世界上第一块芯片就是他们制造出来的。
芯片是半导体产业的产品,半导体是用来做芯片的材料。
这个行业,通俗一点,就叫芯片行业,学术一点就叫半导体行业,实际上相当于土豆和马铃薯的区别。
仅仅设计出芯片,还是远远不够的,他还需要用光刻机在芯片上进行雕刻。
光刻机就相当于雕刻用的“笔”。
而世界上,只有3个国家有能力制造出光刻机,其中能制造出高端光刻机的,只有岛国和荷兰。
岛国的国土面积虽然不大,却掌握着强大的科技实力和工业基础。
在八十年代,岛国的光刻机是全世界最先进的。
那个时候,尼康、佳能公司也能生产光刻机,曾一度占领行业50%以上的份额,包括IBM、英特尔、德州仪器在内的大客户,无一不争相抢购他们的光刻机。
然而,由于这两家公司的一个失误,导致岛国将光刻机巨头的皇冠,拱手让给了荷兰的ASML。
ASML从2000年左右开始研发EUV光刻机,并决定大规模量产。
彼时,岛国光刻机企业却认为系统太过复杂,并未选择跟进。
那个时候的ASML还是一家小公司,面对岛国制霸光刻机市场,他们决定以小博大,弯道超车,试一试台积电,林本坚提出的“浸入式光刻机技术”。
这个技术,你听起来觉得很高端,实际上是一种非常简单的技术,简单到陈伟东第一次听说的时候,还以为自己听错了。
所以他对这件事情印象深刻。
浸入式光刻技术,就是在光刻镜头,与待刻的硅晶片之间,充满液体,就可以大幅度提高光刻机的加工精度!
陈伟东将这项“技术”,告诉了克鲁格教授。
最近这些天,他在实验中将那台从树屋研究所带回来的光刻机,精度一百九十纳米的光刻机,成功刻制出了一百零五纳米的密集图形!
这一结果让他欣喜若狂!
几近失态!
通常的光刻机,在光刻镜头与硅晶圆之间,没有任何遮挡。
当然,从另一个角度来说,它们之间,存在的是空气。
浸入式的思路,就是用液体来替换掉中间的空气。
由于液体具有折光率,所以当紫外线通过液体介质之后,它的光源波长就会缩短,从而起到精微刻制的作用。
本来他们还觉得有些老旧的光刻机,突然摇身一变,成为了一百零五纳米的光刻机,远远的超过了现有的光刻技术!
其实这个浸入式光刻技术,并不算ASML首创。
早在80年代初,就有科学家采用浸入技术,成功提高了光刻效果。
然而,这项技术,它的液体很容易污染光学镜片。
所以这个这个时期的主流光刻技术研究,只是将其作为一个过渡手段,并没有起到足够的重视。
一旦下一代光刻技术成熟,便会毫不犹豫的抛弃浸入式光刻。
另外,感谢“书友20170325081724939”打赏的100书币。
感谢书友:“就该好好、jerryWWW,投的月票支持。”
请收藏:https://m.zsde.cc
(温馨提示:请关闭畅读或阅读模式,否则内容无法正常显示)