领域,一直无法进步,而且这个技术非常关键,导致ASML公司在后世如此强势,在美国主子的授权下,直接对中国制造芯片说不,禁止向中国芯片制造企业供应先进的光刻机。
所以,国产光刻机的研发刻不容缓,不但需要众多芯片制造企业的积极参与,还需要中国政府和科研力量的大力支持,毕竟这不是一家或两家芯片生产企业能完成的。
“李总,如果你想投资光刻机制造,我们都愿意加入进来,共同打造中国的光刻机。”
在座的几位大佬纷纷表示支持,愿意加入李向阳所倡导的新一代光刻机的制造计划,虽然他们投资甚少,但是如果昌隆电子研发成功,作为光刻机研发的合作伙伴,他们最终都会受益匪浅。
“好,让我们共同研发中国的光刻机!”
李向阳伸出手来,和在座的各位大佬逐一握手,初步达成了合作意向。
虽然前途依然渺茫,但是只有通过合作,中国的半导体企业才能走得更远。
后世独霸于光刻机设备生产的ASML公司,不但是一个集成组装生产商,还是全球化的受益者,其90%的零部件来自于外购,背后是美日韩、湾湾地区和德国的技术支撑,才能生产出极度复杂的EUV光刻机。
为了不让光刻机方面受制于人,李向阳等人必须提前布局,不但要急追猛赶,争取在荷兰公司研发出EUV光刻机之前,在光刻机制造方面取得一定的技术优势,还要兼并一些关键零部件和重要化学品企业。
特别是制造光刻机需要的光源,双工件台和反射镜,这些都是制造EUV光刻机的三大重要部件。
在光源方面,虽然攻克EUV光源十分重要,但是在主流的DUV光源方面,中国还很落后,因为ASML公司已经放弃157纳米的DUV光源,转向EUV光源技术。
所以,中国不但缺少研发光刻机的制造公司,还缺少研发光刻机光源的高科技企业。
在光刻机镜头方面,中国光学科研单位研发的速度十分缓慢,一直到2020年,都没有研制出什么实物。
就连DUV光刻机使用的透镜和核心的光学镜片、目前和光刻机光源一样,都不掌握在国内厂商的手中,要实现这两方面的突破,绝非一日之功,但是这一步是必须要走,而且是刻不容缓。
至于光刻机生产需要的工件台,虽然国内有企业已经开始研发双工件台,但双工作台的技术还很落后,估计目前刚摸索到一点光刻机双工件台的门槛。
除了这三大部件外,剩下的控制台,掩膜台等还至关重要,需要众多国内芯片制造企业继续摸索前进。
但是,中国芯片制造产业的发展,不仅仅是简单的芯片制造技术,还要在国内形成一条完整的国产化芯片产业链,而这个芯片产业链,既需要众多中国半导体企业通力合作,还需要中国政府和科研单位在芯片研发方面进行大力支持。
在开始时,只有少数的几家半导体企业加盟,但李向阳相信这支队伍以后会逐渐扩大,在所有半导体企业的共同努力下,一定生产出中国先进的光刻机。
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